ZF300热蒸发镀膜机

ZF300热蒸发镀膜机是专为科研院所及实验室用户群体设计开发的一款小型高真空蒸发镀膜系统。采用大抽速分子泵准无油高真空系统，机架电控一体化设计，整体布局紧凑合理，350型四源有机无机热蒸发镀膜机定做，充分考虑人机工程学的倾斜操控面板和可直观观察蒸发状态的真空室结构。两组/三组蒸发源可兼容金属、有机物蒸发。广泛应用于高校、科研院所制备功能薄膜、蒸镀电极、扫描电镜制样等，特别适合太阳能电池、有机EL、LED显示管研究与开发领域。

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ZF500有机蒸发镀膜机

广泛应用于高校材料、物理、化学、电子、能源等相关学科以及科研院所制备高质量功能薄膜、蒸镀电极等，多源有机无机热蒸发镀膜机定做，半导体、有机EL、OLED显示研究与开发领域。

系统组成:

主要由真空室、蒸发源、样品台、 真空抽气及测量、膜厚测试 、电控系统组成。

技术指标：

极限真空度4×10-5Pa，系统漏率：1.2×10-7PaL/S； 恢复真空时间：40分钟可达6.0×10 Pa-4

真空室：D形真空室，尺寸350× 400mm

样品台：尺寸为4英寸4平面样品；

有机束源炉：数量：4支，标准型600度控温；

样品架：安装加热炉。基片的温度从室温至600℃（硅片上表面的温度，只需标定一次即可）

4套挡板系统：动密封手动控制；

样品挡板（1套），磁力拨叉，

膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999? 

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什么是蒸发镀膜？

蒸发镀膜常称真空镀膜。

其特点是在真空条件下，材料蒸发并在玻璃表面上凝结成膜，再经高温热处理后，在玻璃表面形成附着力很强的膜层。有70 多种元素、50 多种无机化合物材料和多种合金材料可供选择。PVD工艺的首要条件是在真空条件下操作，因为限量以上的残余气体会影响膜的成分和性质。为了实现镀膜工艺，要求残余气体的压力为0.1～1Pa。

ZF350有机无机联合制备：采用3～4组蒸发源可兼容金属、有机物蒸发。广泛应用于高校材料、物理、化学、电子、能源等相关学科以及科研院所制备高质量功能薄膜、蒸镀电极等，特别适合OPV/钙钛矿/无机薄膜太阳能电池、半导体、有机EL、OLED显示研究与开发领域。

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