脉冲激光沉积机制

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PLD的系统设备简单，相反，它的原理却是非常复杂的物理现象。它涉及高能量脉冲辐射冲击固体靶时，激光与物质之间的所有物理相互作用，激光脉冲沉积设备价格，亦包括等离子羽状物的形成，其后已熔化的物质通过等离子羽状物到达已加热的基片表面的转移，激光脉冲沉积设备，及膜的生成过程。所以，PLD一般可以分为以下四个阶段：

1. 激光辐射与靶的相互作用

2. 熔化物质的动态

3. 熔化物质在基片的沉积

4. 薄膜在基片表面的成核（nucleation）与生成。

脉冲激光沉积系统(PLD)的特点

PLD系统拥有好的性能价比，具有以下优异的性能:

★主真空室抽气系统前级泵采用无油干泵

★基片加热温度可达1200℃。基片台可360度旋转（转速1-20rpm可调）。

★基片与靶之间方位采用靶在下方，基片在上方，均水平放置。基片与靶间距沿Z轴（即垂直地面方向）可调。各坩埚之间要求相互隔离，不互相污染。

★同一Load Lock系统既可以传递靶又可以传递基片，可两者间切换操作。设备及光学台可联接在一起，激光脉冲沉积设备哪家好，始终保持腔体和激光束位置稳定。支撑腿带可调节的转轮，方便在地面整体（包括腔体系统和激光器）同时移动与固定。

沈阳鹏程真空技术有限责任公司以诚信为首，服务至上为宗旨。公司生产、销售脉冲激光沉积系统，公司拥有强大的销售团队和经营理念。想要了解更多信息，赶快拨打图片上的热线！

常规沉积条件下的组合合成

脉冲激光沉积系统特点及优势：

可根据客户需求定制产品，灵活性高，并提供专业的技术支持；靶台可以安装6个靶位，靶材更换灵活；样品台样品尺寸从10x10mm样品到2英寸样品均适用；进样室可以存储多个靶和样品；交易过程无需繁琐的进、出关手续， 交货期短，；

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