ICP刻蚀机的结构

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ICP设备主要包括预真空室、刻蚀腔、供气系统和真空系统四部分。

（1）预真空室预真空室的作用是确保刻蚀腔内维持在设定的真空度，不受外界环境（如：粉尘、水汽）的影响，进口化学气相沉积设备报价，将危险性气体与洁净厂房隔离开来。
它由盖板、机械手、传动机构、隔离门等组成。

（2）刻蚀腔体刻蚀腔体是ICP 刻蚀设备的核心结构，它对刻蚀速率、刻蚀的垂直度以及粗糙度都有直接的影响。
刻蚀腔的主要组成有：上电极、ICP 射频单元、RF 射频单元、下电极系统、控温系统等组成。

（3）供气系统供气系统是向刻蚀腔体输送各种刻蚀气体，进口化学气相沉积设备，通过压力控制器（PC）和质量流量控制器（MFC）精准的控制气体的流速和流量。
气体供应系统由气源瓶、气体输送管道、控制系统、混合单元等组成。

（4）真空系统真空系统有两套，分别用于预真空室和刻蚀腔体。
预真空室由机械泵单独抽真空，只有在预真空室真空度达到设定值时，才能打开隔离门，进行传送片。
刻蚀腔体的真空由机械泵和分子泵共同提供，刻蚀腔体反应生成的气体也由真空系统排空。

PCVD与传统CVD技术的区别

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PCVD与传统CVD技术的区别在于等离子体含有大量的高能量电子，这些电子可以提供化学气相沉积过程中所需要的激发能，从而改变了反应体系的能量供给方式。
由于等离子体中的电子温度高达10000K，电子与气相分子的碰撞可以促进反应气体分子的化学键断裂和重新组合，生成活性更高的化学基团，同时整个反应体系却保持较低的温度。
这一特点使得原来需要在高温下进行的CVD过程得以在低温下进行。

化学气相沉积的应用

现代科学和技术需要使用大量功能各异的无机新材料，这些功能材料必须是高纯的，或者是在高纯材料中有意地掺入某种杂质形成的掺杂材料。
但是，进口化学气相沉积设备公司，我们过去所熟悉的许多制备方法如高温熔炼、水溶液中沉淀和结晶等往往难以满足这些要求，进口化学气相沉积设备厂家，也难以保证得到高纯度的产品。
因此，无机新材料的合成就成为现代材料科学中的主要课题。

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