ZF500有机蒸发镀膜机

广泛应用于高校材料、物理、化学、电子、能源等相关学科以及科研院所制备高质量功能薄膜、蒸镀电极等，单室三源金属热蒸发镀膜机，半导体、有机EL、OLED显示研究与开发领域。

系统组成:

主要由真空室、蒸发源、样品台、 真空抽气及测量、膜厚测试 、电控系统组成。

技术指标：

极限真空度4×10-5Pa，系统漏率：1.2×10-7PaL/S； 恢复真空时间：40分钟可达6.0×10 Pa-4

真空室：D形真空室，尺寸350× 400mm

样品台：尺寸为4英寸4平面样品；

有机束源炉：数量：4支，单室三源金属热蒸发镀膜机厂家，标准型600度控温；

样品架：安装加热炉。基片的温度从室温至600℃（硅片上表面的温度，只需标定一次即可）

4套挡板系统：动密封手动控制；

样品挡板（1套），磁力拨叉，

膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999? 

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有机无机蒸发镀膜仪

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有机无机蒸发镀膜仪采用直线式结构，主要由二个有机材料生长室组成，两个有机材料生长室之间通过闸板阀联接，其中一个生长室系统预留与手套箱对接接口，能够完成二套独立的制备薄膜系统之间互相传送基片。有机无机蒸发镀膜仪的有机材料生长室主要由真空室腔体组件、有机蒸发源、热阻蒸发舟、样品传递装置、样品台、膜厚监测仪、真空室照明装置、烘烤装置等组成。

钙钛矿镀膜设备

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设备用途 ：

适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，单室三源金属热蒸发镀膜机销售，也可用于大批量生产前的试验工作。广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域

设备组成：

该设备主要由沉积室、真空排气系统、真空测量、蒸发源、样品加热、电控系统、等部分组成。

      1、镀膜室：方形前后开门结构，内带有防污板。

      2、真空度：镀膜室的极限真空≤5×10-5Pa；

      3、蒸发源系统：有机源蒸发源4个，无机蒸发源2套

      4、样品架系统：样品大小为Φ150mm的样品，旋转速度为：0～30转/分；

      5、样品在镀膜过程中，可烘烤加热，加热温度为：室温～190℃，测温控温。

      6、膜厚控制仪：测量范围0-999999?

沈阳鹏程-单室三源金属热蒸发镀膜机由沈阳鹏程真空技术有限责任公司提供。沈阳鹏程真空技术有限责任公司（www.pengchengzk.com）在成型设备这一领域倾注了诸多的热忱和热情，沈阳鹏程一直以客户为中心、为客户创造价值的理念、以品质、服务来赢得市场，衷心希望能与社会各界合作，共创成功，共创。相关业务欢迎垂询，联系人：董顺。