多源蒸发系统介绍

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主要用途：　　

系统主要用来生长EL OEL分子有机电致发光器件薄膜的研究工作　　

系统组成:　　

该类设备为双室带手套箱结构的有机、无机、多源有机、无机气相分子沉积设备，采用直线式结构，由一个金属材料生长、氧化物生长室、一个有机材料生长室和一个手套箱组成，双室多源蒸发镀膜机供应，金属材料生长和氧化物生长室以及进样室/氧化物生长室之间通过空气锁联接，样品通过带远程手控盒功能的电动磁力耦合装置在两个生长室之间手动传递。可选手套箱。　　

钙钛矿蒸发镀膜机的特点

1、样品位于真空室上方，双室多源蒸发镀膜机价格，蒸发源位于真空室下方，向上蒸发镀膜，且蒸发源带有挡板装置。</span>

2、设有烘烤加热功能，可在镀膜过程中加热样品，双室多源蒸发镀膜机，烘烤加热温度可达180℃。

3、设有断水、断电连锁保护报警装置及防误操作保护报警装置。

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什么是蒸发镀膜？

蒸发镀膜常称真空镀膜。

其特点是在真空条件下，材料蒸发并在玻璃表面上凝结成膜，再经高温热处理后，在玻璃表面形成附着力很强的膜层。有70 多种元素、50 多种无机化合物材料和多种合金材料可供选择。PVD工艺的首要条件是在真空条件下操作，因为限量以上的残余气体会影响膜的成分和性质。为了实现镀膜工艺，双室多源蒸发镀膜机公司，要求残余气体的压力为0.1～1Pa。

ZF350有机无机联合制备：采用3～4组蒸发源可兼容金属、有机物蒸发。广泛应用于高校材料、物理、化学、电子、能源等相关学科以及科研院所制备高质量功能薄膜、蒸镀电极等，特别适合OPV/钙钛矿/无机薄膜太阳能电池、半导体、有机EL、OLED显示研究与开发领域。

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