脉冲激光沉积介绍

脉冲激光沉积，是一种用途广泛的薄膜沉积技术。
脉冲激光快速蒸发靶材，生成与靶材组成相同的薄膜。
PLD 的独特之处是能量源（脉冲激光）位于真空室的外面。
这样，在材料合成时，工作压力的动态范围很宽，达到10-10 Torr ~ 100 Torr。
通过控制镀膜压力和温度，激光脉冲沉积设备，可以合成一系列具有独特功能的纳米结构和纳米颗粒。

另外，PLD 是一种“数字”技术，在纳米尺度上进行工艺控制（A°/pulse）。

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脉冲激光沉积简介

随着现代科学和技术的发展，薄膜科学已成为近年来迅速发展的学科领域之一，是凝聚态物理学和材料科学的一个重要研究领域。
功能薄膜是薄膜研究的主要方面，它不仅具有丰富的物理内涵，而且在微电子、光电子、超导材料等领域具有十分广泛的应用。
长期以来，人们发明了多种制膜技术和方法：真空蒸发沉积、离子束溅射、磁控溅射沉积、分子束外延、金属有机化学气相沉积、溶胶- 凝胶法等。
上述方法各有特点，并在一些领域得到应用。
但由于其各有局限性，激光脉冲沉积设备厂家，仍然不能满足薄膜研究的发展及多种薄膜制备的需要。
随着激光技术和设备的发展，激光脉冲沉积设备价格，特别是高功率脉冲激光技术的发展，脉冲激光沉积（PLD）技术的特点逐渐被人们认识和接受

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脉冲激光沉积系统配置介绍

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脉冲激光沉积系统配置：

生长室，进样室可选水平、垂直两种靶台可选激光加热和辐射加热两种样品台可选，激光加热高的温度1200℃工艺气路可以任意搭配配备高压RHEED，工作气压可达100Pa可预留法兰，用于LEED，K-Cell， E-beam等其它可选项如臭氧发生器，离子源，掩膜系统等。

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