钙钛矿镀膜设备

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设备用途 ：

适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作。广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域

设备组成：

该设备主要由沉积室、真空排气系统、真空测量、蒸发源、样品加热、电控系统、等部分组成。

      1、镀膜室：方形前后开门结构，内带有防污板。

      2、真空度：镀膜室的极限真空≤5×10-5Pa；

      3、蒸发源系统：有机源蒸发源4个，多源有机无机热蒸发镀膜机，无机蒸发源2套

      4、样品架系统：样品大小为Φ150mm的样品，多源有机无机热蒸发镀膜机价格，旋转速度为：0～30转/分；

      5、样品在镀膜过程中，多源有机无机热蒸发镀膜机哪家好，可烘烤加热，加热温度为：室温～190℃，测温控温。

      6、膜厚控制仪：测量范围0-999999?

钙钛矿镀膜机介绍

主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作，广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域。钙钛矿镀膜机工作过程中样品位于真空室上方，蒸发源位于真空室下方，向上蒸发镀膜，且蒸发源带有挡板装置，防止蒸发源被污染。

沈阳鹏程真空技术有限责任公司以诚信为首，服务至上为宗旨。公司生产、销售电阻热蒸发镀膜产品，公司拥有强大的销售团队和经营理念。想要了解更多信息，赶快拨打图片上的热线！

什么是蒸发镀膜？

蒸发镀膜常称真空镀膜。

其特点是在真空条件下，材料蒸发并在玻璃表面上凝结成膜，再经高温热处理后，在玻璃表面形成附着力很强的膜层。有70 多种元素、50 多种无机化合物材料和多种合金材料可供选择。PVD工艺的首要条件是在真空条件下操作，因为限量以上的残余气体会影响膜的成分和性质。为了实现镀膜工艺，要求残余气体的压力为0.1～1Pa。

ZF350有机无机联合制备：采用3～4组蒸发源可兼容金属、有机物蒸发。广泛应用于高校材料、物理、化学、电子、能源等相关学科以及科研院所制备高质量功能薄膜、蒸镀电极等，特别适合OPV/钙钛矿/无机薄膜太阳能电池、半导体、有机EL、OLED显示研究与开发领域。

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多源有机无机热蒸发镀膜机-沈阳鹏程真空技术公司由沈阳鹏程真空技术有限责任公司提供。沈阳鹏程真空技术有限责任公司（www.pengchengzk.com）为客户提供“电阻热蒸发镀膜，磁控溅射，激光脉冲沉积，电子束”等业务，公司拥有“鹏程真空”等品牌，专注于成型设备等行业。欢迎来电垂询，联系人：董顺。