ZF500有机蒸发镀膜机

广泛应用于高校材料、物理、化学、电子、能源等相关学科以及科研院所制备高质量功能薄膜、蒸镀电极等，半导体、有机EL、OLED显示研究与开发领域。

系统组成:

主要由真空室、蒸发源、样品台、 真空抽气及测量、膜厚测试 、电控系统组成。

技术指标：

极限真空度4×10-5Pa，系统漏率：1.2×10-7PaL/S； 恢复真空时间：40分钟可达6.0×10 Pa-4

真空室：D形真空室，尺寸350× 400mm

样品台：尺寸为4英寸4平面样品；

有机束源炉：数量：4支，标准型600度控温；

样品架：安装加热炉。基片的温度从室温至600℃（硅片上表面的温度，有机无机热蒸发镀膜机定做，只需标定一次即可）

4套挡板系统：动密封手动控制；

样品挡板（1套），多源有机无机热蒸发镀膜机定做，磁力拨叉，350型四源有机无机热蒸发镀膜机定做，

膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999? 

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电阻热蒸发镀膜——“蒸发技术”介绍

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蒸发技术分为间歇蒸发与连续蒸发、直接电阻加热蒸发和间接电阻加热蒸发，连续生产与制造厚膜时采用连续蒸发加热。一个入射的蒸气原子在表面的滞留时间中，350型四源有机无机热蒸发镀膜机定做，原子不断地扩散形成不均匀的成核作用，随着蒸气原子不断地冲击表面，各个核都在增长，相邻各核开始接触进入聚结阶段，直到形成连续膜。也可把上述过程划分为小岛阶段、网络阶段、孔阶段及连续膜阶段。

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什么是蒸发镀膜？

蒸发镀膜常称真空镀膜。

其特点是在真空条件下，材料蒸发并在玻璃表面上凝结成膜，再经高温热处理后，在玻璃表面形成附着力很强的膜层。有70 多种元素、50 多种无机化合物材料和多种合金材料可供选择。PVD工艺的首要条件是在真空条件下操作，因为限量以上的残余气体会影响膜的成分和性质。为了实现镀膜工艺，要求残余气体的压力为0.1～1Pa。

ZF350有机无机联合制备：采用3～4组蒸发源可兼容金属、有机物蒸发。广泛应用于高校材料、物理、化学、电子、能源等相关学科以及科研院所制备高质量功能薄膜、蒸镀电极等，特别适合OPV/钙钛矿/无机薄膜太阳能电池、半导体、有机EL、OLED显示研究与开发领域。

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多源有机无机热蒸发镀膜机定做-沈阳鹏程公司由沈阳鹏程真空技术有限责任公司提供。沈阳鹏程真空技术有限责任公司（www.pengchengzk.com）为客户提供“电阻热蒸发镀膜，磁控溅射，激光脉冲沉积，电子束”等业务，公司拥有“鹏程真空”等品牌，专注于成型设备等行业。欢迎来电垂询，联系人：董顺。