电子束结构介绍

粒子增速器的结构可以与显像管类比。
显像管中的电子枪对应于增速器的电子枪或离子源，高真空电子束镀膜机价格，显像管中加速电子用的高压电极对应于增速器中的高压加速电极及加速腔。
显像管中控制电子运动的电偏转板与聚焦电子的聚焦线圈，对应于增速器中控制粒子运动轨道和聚焦粒子束流的多种电磁部件，高真空电子束镀膜机厂家，如导向磁铁、聚焦磁铁、多极校正磁铁等。
对粒子增速器的粒子运行管道来说，为了减少粒子在运动中与残余气体碰撞而造成粒子的丢失和束流性能变坏，所要求的真空度比显像管要高数千到数万倍。
随着科学技术的不断发展，根据科学家对粒子能量和流强的不同要求，陆续产生了不同原理、不同结构的多种增速器。

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DZS800型电子束镀膜设备

主要用途：　　

用于制备导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等，批量生产型。

系统组成:　　

系统主要由蒸发真空室、E型电子枪、热蒸发电极、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、计算机系统及安装机台等部分组成。
　　

技术指标：　　

极限真空度：≤6.7×10 Pa　　恢复真空时间：从1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min　　

系统漏率：6. 7×10-7Pa.L/S；　　

真空室：真空室1200x9000 x800mm采用U型箱体前开门，后置抽气系统　　

e型电子枪：阳极电压：10kv(2套)　　坩埚：水冷式坩埚，24穴设计，高真空电子束镀膜机报价，每个容量11ml　　

功率：0-10KW可调　　电阻蒸发源(可选)　　

基片尺寸：可放置4″基片一次更换20个样品　　

样品台：基片可连续回转，转速5-60转/分基片与蒸发源之间距离350mm加热温度 400°C±1°C　　

气路系统：质量流量控制器1路　　

石英晶振膜厚控制仪：监测膜厚显示范围：0-99μ9999?

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电子束蒸发镀膜机设备性能介绍

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设备性能技术指标：

1、设备极限真空度：5×10-5Pa（电子枪静止状态）。

2、设备总体漏放率：关机12小时后，真空度≤8Pa。

3、从大气到抽到≤9×10-4Pa，40min(新设备充干燥氮气)，提高了工作效率。

4、真空漏率：≤10-7Pa.l/s

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