脉冲激光沉积简介

随着现代科学和技术的发展，薄膜科学已成为近年来迅速发展的学科领域之一，是凝聚态物理学和材料科学的一个重要研究领域。
功能薄膜是薄膜研究的主要方面，激光脉冲沉积设备多少钱，它不仅具有丰富的物理内涵，激光脉冲沉积设备价格，而且在微电子、光电子、超导材料等领域具有十分广泛的应用。
长期以来，人们发明了多种制膜技术和方法：真空蒸发沉积、离子束溅射、磁控溅射沉积、分子束外延、金属有机化学气相沉积、溶胶- 凝胶法等。
上述方法各有特点，并在一些领域得到应用。
但由于其各有局限性，仍然不能满足薄膜研究的发展及多种薄膜制备的需要。
随着激光技术和设备的发展，特别是高功率脉冲激光技术的发展，脉冲激光沉积（PLD）技术的特点逐渐被人们认识和接受

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脉冲激光沉积的原理

脉冲激光沉积原理：在真空环境下利用脉冲激光对靶材表面进行轰击，利用激光产生的局域热量将靶材物质轰击出来，再沉积在不同的衬底上，从而形成薄膜。

脉冲激光沉积技术适合做的薄膜包括各种多元氧化物，氮化物，硫化物薄膜，金属薄膜，磁性材料等。

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脉冲激光沉积机制

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PLD的系统设备简单，相反，它的原理却是非常复杂的物理现象。
它涉及高能量脉冲辐射冲击固体靶时，激光与物质之间的所有物理相互作用，激光脉冲沉积设备，亦包括等离子羽状物的形成，其后已熔化的物质通过等离子羽状物到达已加热的基片表面的转移，及膜的生成过程。
所以，PLD一般可以分为以下四个阶段：

1. 激光辐射与靶的相互作用

2. 熔化物质的动态

3. 熔化物质在基片的沉积

4. 薄膜在基片表面的成核（nucleation）与生成。

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