PLD脉冲激光沉积系统介绍

PLD是将脉冲激光透过合成石英窗导入真空腔内照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume状等离子体状态，激光脉冲沉积装置哪家好，然后被堆积到设在对面的基板上而成膜。
PLD方法可以获得拥有热力学理论上准稳定状态的组成和构造的人工合成新材料。

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脉冲激光沉积细节介绍

很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧气压力（>100 Torr）下冷却是有利的。
所有Pioneer 系统设计的工作压力范围。
从它们的额定初始压力到大气压力。
这也有益于纳米粒子的生成。

Pioneer PLD 系统的激光束入射角为45°，保持了激光密度在靶材上的均匀性，同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。
浅的入射角能够拉长靶材上的激光斑点，导致密度均匀性的损失。

为了避免使用昂贵的与氧气兼容的真空泵流体，消除油的回流对薄膜质量的影响，所有Pioneer 系统的标准配置都采用无油真空系统。

我们的研究表明靶和基片的距离是获得较佳薄膜质量的关键参数。
Pioneer 系统采用可变的靶和基片的距离，激光脉冲沉积装置，对沉积条件进行较大的控制。

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脉冲激光沉积原理

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脉冲激光沉积原理：在真空环境下利用脉冲激光对靶材表面进行轰击，利用激光产生的局域热量将靶材物质轰击出来，再沉积在不同的衬底上，从而形成薄膜。

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