PLD450型脉冲激光镀膜介绍

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主要用途：　　

用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。
适用于各大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。
　　

系统组成:　　

主要由溅射真空室、旋转靶台、基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。
　　

脉冲激光沉积设备介绍

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是比较理想的薄膜与涂层合成设备。
可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管、2D材料。
Blue Wave还提供相关系统配件，激光镀膜设备价格，例如基片加热装置、原位监测工具。
此外，BlueWave还为您提供标准的薄膜以及材料涂层，例如氧化物涂层、导电薄膜、无定型或纳米晶Si/SiC、晶体AlN-GaN、聚合物、纳米钻石、HFCVD钻石涂层以及器件加工。

脉冲激光沉积介绍

脉冲激光沉积，pld300型激光镀膜设备价格，是一种用途广泛的薄膜沉积技术。
脉冲激光快速蒸发靶材，生成与靶材组成相同的薄膜。
PLD 的独特之处是能量源（脉冲激光）位于真空室的外面。
这样，在材料合成时，工作压力的动态范围很宽，达到10-10 Torr ~ 100 Torr。
通过控制镀膜压力和温度，可以合成一系列具有独特功能的纳米结构和纳米颗粒。

另外，PLD 是一种“数字”技术，在纳米尺度上进行工艺控制（A°/pulse）。

沈阳鹏程真空技术有限责任公司以诚信为首 ，服务至上为宗旨。
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