脉冲激光沉积的原理

脉冲激光沉积原理：在真空环境下利用脉冲激光对靶材表面进行轰击，利用激光产生的局域热量将靶材物质轰击出来，再沉积在不同的衬底上，激光脉冲沉积装置，从而形成薄膜。

脉冲激光沉积技术适合做的薄膜包括各种多元氧化物，氮化物，激光脉冲沉积装置报价，硫化物薄膜，金属薄膜，磁性材料等。

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脉冲激光沉积系统的特点有哪些？

?  超高真空不锈钢腔体

?  可集成热蒸发源或溅射源

?  可旋转的耐氧化基片加热台

?  流量计或针阀准确控制气体流量

?  标准真空计?  干泵与分子泵

?  可选配不锈钢快速进样室

?  可选配基片-靶材距离自动控制系统

?  是金属氧化物、氮化物、碳化物、金属纳米薄膜、多层膜、超晶格的较佳设备

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脉冲激光沉积系统特点及优势

可根据客户需求定制产品，激光脉冲沉积装置厂家，灵活性高，并提供专业的技术支持；靶台可以安装6个靶位，靶材更换灵活；样品台样品尺寸从10x10mm样品到2英寸样品均适用；进样室可以存储多个靶和样品；交易过程无需繁琐的进、出关手续， 交货期短，；

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激光脉冲沉积装置价格-沈阳鹏程有限公司-激光脉冲沉积装置由沈阳鹏程真空技术有限责任公司提供。
沈阳鹏程真空技术有限责任公司（www.pengchengzk.com）为客户提供“电阻热蒸发镀膜，磁控溅射，激光脉冲沉积，电子束”等业务，公司拥有“鹏程真空”等品牌。
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