脉冲激光沉积介绍

脉冲激光沉积系统具有独特的优越性。
它可以把激光烧蚀技术和我们所拥有的其他沉积技术（如RF源）集成于一台设备上。
可以生长各种可能的材料。

● 配有6个旋转靶台，实现多层薄膜结构生长。

● 可与准分子激光和Yag激光相连。

● 在线监控仪器做为可选件，脉冲激光沉积设备，为客户提供高质量的工艺信息反馈。

● 装载室不但可以装取样品，还可以与其他生长设备或分析设备相连。

应用

● 多元素复合氧化物

● 高温超导材料

● 磁性材料、金属材料

● 低蒸汽压材料

● MEMS

期望大家在选购脉冲激光沉积时多一份细心，少一份浮躁，不要错过细节疑问。
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脉冲激光沉积发展前景

由脉冲激光沉积技术的原理、特点可知，它是一种极具发展潜力的薄膜制备技术。
随着辅助设备和工艺的进一步优化，将在半导体薄膜、超晶格、超导、生物涂层等功能薄膜的制备方面发挥重要的作用；并能加快薄膜生长机理的研究和提高薄膜的应用水平，加速材料科学和凝聚态物理学的研究进程。
同时也为新型薄膜的制备提供了一种行之有效的方法。

沈阳鹏程真空技术有限责任公司本着多年脉冲激光沉积行业经验，专注脉冲激光沉积研发定制与生产，脉冲激光沉积设备报价，先进的脉冲激光沉积生产设备和技术，建立了严格的产品生产体系，想要更多的了解，欢迎咨询图片上的热线！！！

脉冲激光沉积(PLD)简介

随着新型氧化物/氮化物的研究和发展，脉冲激光沉积设备价格，用于沉积它们的外延生长设备：脉冲激光沉积(PLD)和由其衍生的生长技术也越来越受到科研工作者的重视和青睐。
PLD是近年来发展起来的一种真空物理沉积工艺，具有衬底温度较低，脉冲激光沉积设备多少钱，而且采用光学系统、非接触加热和避免不必要的玷污等特点。
PLD还有一个很大的优点，即能够通入较高的氧分压(1 ~ 50 mTorr)，特别适于氧化物的生长。
但是PLD方法无法准确控制膜厚，不可能制备原子层尺度的超薄型薄膜和超晶格材料。

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