高温束源炉简介

沈阳鹏程真空技术有限责任公司专业生产、销售高温束源炉，磁控靶销售，我们为您分析该产品的以下信息。

束源炉是一种蒸发镀膜装置是在高真空条件下，磁控靶价格，通过加热材料的方法，使坩埚中被蒸发物在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜，可用于镀半导体、金属膜，氧化物、纳米级单层及多层功能膜的连续沉积。

随着真空镀膜技术的不断发展，磁控靶生产厂家，对镀膜设备的工艺需求也不断提出更高的要求，尤其在超高温蒸发设备领域更显突出。
在超高温状态下所用材料的选用尤为重要，要求在正常高温下炉内气氛清洁，不能给工件带来污染，使用稳定性，温控精度等。

水冷电缆电极性能要求

水冷电缆外护套胶管耐击穿电压V≧2300V。

水冷电缆外护套胶管耐工作水压P≧0.6Mpa。

外护套胶管与电极接口处冷却水无渗漏。

软体导线与电极在专用设备上冷挤压紧固。

200mm2标称截面积的试验拉力为15KN，在此基础上，磁控靶，水冷电缆标称截面积每增加100mm2，试验拉力值相应增， 加5KN。

水冷电缆的表面温升（包括连接处）不大于40K。

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磁     控    靶

 磁控溅射靶是真空磁控溅射镀膜的核心部件，它的重要作用主要表现在以下两个方面

(1)对于大面积表面的镀膜，磁控溅射靶影响着膜层的均匀性与重复性；

(2)当膜层材料为贵重金属时，靶的结构决定着靶材(形成薄膜的材料)，即该贵重金属的利用率.从靶结构上分为:圆形平面靶/柱状靶/矩形靶/

常规圆形平面靶规格:

1.靶材尺寸：Ф50mm；Ф60mm；Ф75mm；Ф100mm；Ф150mm；可定制各类磁控靶

2.永磁靶（可溅射磁性材料)，射频溅射与直流溅射兼容，靶内水冷；

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