磁控溅射系统介绍

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真空泵和测量装置：

低真空：干泵和convectron真空规

高真空：涡轮分子泵，低温泵和离子规

5.控制系统：

硬件：PLC和计算机触摸屏控制

自动和手动沉积控制

主要特点：

射频电源：基底预先清洗和等离子体辅助沉积

温度控制器：基底加热

大面积基底传送装置

冷却系统

磁控溅射镀膜机的特点

擅长生长高质量的薄膜或是超薄 膜，连续磁控镀膜生产线报价， 金属与绝缘材料.保证 高效的抽气速度， 与友厂对比，氢和氧的污染系数好数十倍. 可制作与外延品质类似的薄膜..烘烤时可把磁铁拆下以保护磁铁不退磁. 客户可选择 RHEED， 在磁铁拆下时可检测样品薄膜的质量. Sputter 24 均匀性及重现性非常出色，连续磁控镀膜生产线， 可以使用DC， RF，连续磁控镀膜生产线供应， 脉冲直流电源. 标准材料与磁性材料均可使用. 可安排成共溅射与垂直溅射， 根据需求设计安装.

与激光加热器联用可变为反应型磁控溅射， 可成长氧化物薄膜与氮化物薄膜等. 正下方可安装一只离子源， 可以提供样品清洗与辅助镀膜.

期望大家在选购磁控溅射产品时多一份细心，少一份浮躁，不要错过细节疑问。想要了解更多磁控溅射产品的相关资讯，欢迎拨打图片上的热线！！！

线列式磁控生产线

沈阳鹏程真空技术有限责任公司专业生产、销售磁控溅射产品，连续磁控镀膜生产线多少钱，我们为您分析该产品的以下信息。

采用先进的in-line产线结构，Twin-Mag孪生阴极磁控溅射技术，并配以全自动控制系统、先进的真空系统，可在玻璃衬底上镀制SiO2、ITO、AZO、Al、Ni、Ti等各类绝缘介质薄膜、金属或合金薄膜，并可连续溅镀多种不同材质的薄膜构成复合多膜层结构，适合大规模光学、电学薄膜的生产，做到一机多用具有高能效、高可靠性、低成本的优势。

     本产品可广泛应用于触摸屏ITO镀膜、LCD显示屏ITO镀膜、薄膜太阳能电池背电极及AZO镀膜、彩色滤光片镀膜、电磁屏蔽玻璃镀膜、AR镀膜、装饰镀膜等产业领域。

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